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2026-08

SiC晶圆制造工业废水循环回用系统

SiC晶圆制造工业废水循环回用系统针对切割、研磨、清洗与CMP工序废水特点，采用分质收集与膜法深度回用工艺，实现晶圆厂废水回收率80%以上，降低超纯水制备原水负荷，支撑SiC产业绿色制造。

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GaN芯片生产废水处理系统运维规范

GaN芯片生产废水处理系统运维规范涵盖日常巡检、药剂管理、膜系统清洗、水质监测与应急响应五大模块，建立标准化运维流程与数据化台账，保障系统长周期稳定运行与出水稳定达标。

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第三代半导体行业废水环保排放标准

第三代半导体行业废水环保排放标准解读涵盖污水综合排放标准、电子行业水污染物排放标准及地方性限值要求，梳理SiC/GaN制造废水COD、氟化物、总氮等核心指标的达标路径，助力企业合规建设与环评验收。

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SiC/GaN废水处理项目精细化成本管控

SiC/GaN废水处理项目精细化成本管控从药剂消耗、膜更换周期、能耗与人力四个维度建立成本模型，通过水质联动加药、膜系统智能清洗与运行数据可视化，实现废水处理吨水成本降低20%以上的目标。

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CMP抛光废水高回收率循环回用技术

CMP抛光废水高回收率循环回用技术以混凝预处理结合双膜法为核心，针对纳米磨料颗粒与复杂药剂体系实现稳定分离，废水回收率达85%-90%，为半导体及精密制造企业提供节水减排与降本增效的成熟技术方案。

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半导体厂房CMP废水高回收处理案例

半导体厂房CMP废水高回收处理案例展示化学机械抛光废水经混凝沉淀+超滤+反渗透组合工艺处理后回收率突破85%的工程实践，产水回用于工艺清洗，为企业节水减排与半导体绿色制造提供可复制的样板。

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绿氢工厂生产废水循环回用技术

绿氢工厂生产废水循环回用技术围绕电解水制氢对纯水的高要求，构建制氢超纯水制备与排水回收闭环，将制氢系统排水、清洗废水回收再生，降低制氢水耗，助力绿氢项目降本增效与绿色认证。

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锂电池制造工业水循环利用解决方案

锂电池制造工业水循环利用解决方案针对正负极材料、电解液配制等工序废水特点，通过分质收集、膜法浓缩与蒸发结晶，实现厂区废水高比例回用与副产物资源化回收，为动力电池企业构建绿色节水型工厂提供成套技术与装备。

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